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AQUILA公司NKD7000/8000橢偏儀 儀器簡(jiǎn)介：

英***Aquila公司是世界的薄膜分析解決方案供應(yīng)商。
其NKD系列薄膜分析系統(tǒng)是世界上臺(tái)專為表征和分析薄膜涂層和基片而設(shè)計(jì)的光譜儀。適合測(cè)量多層薄膜的光學(xué)性能n（折射指數(shù)）和k（消光系數(shù)），以及d（厚度）。
適合多種薄膜材料：介電、聚合物、半導(dǎo)體和金屬。
主要應(yīng)用在光學(xué)涂層, 半導(dǎo)體加工, 平板顯示器, 數(shù)據(jù)存儲(chǔ)產(chǎn)品, 建筑和高附加值玻璃, 包裝和裝飾材料, 光電器件等領(lǐng)域。
選件豐富，包括軟件選擇入射偏振光及其角度，甚至直徑大到100mm的樣品的X-Y方向上的自動(dòng)掃描呈像。

AQUILA公司NKD7000/8000橢偏儀 技術(shù)參數(shù)：

1.波長(zhǎng)范圍：280nm-2300nm
2.光譜分辨率：1或2nm (可選)
3.層數(shù)：多層
4.薄膜厚度范圍：5nm - 20μm
5.基體：透明，半透明或半吸收

AQUILA公司NKD7000/8000橢偏儀 主要特點(diǎn)：

1.同時(shí)測(cè)量反射和透射光譜
2.***體化的控制和分析軟件，計(jì)算基體中的多種反射
3.數(shù)據(jù)分析可選用***系列散射模型
4.內(nèi)置涂層性能數(shù)據(jù)庫(kù)，可編輯，可擴(kuò)展
5.變角度測(cè)量，微光斑測(cè)量，樣品可控溫，樣品掃描測(cè)試