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美國 OAI 光刻機(jī)

價(jià)  格：詢價(jià)

產(chǎn)  地：更新時(shí)間：2021-01-19 15:36

品  牌：型  號(hào)：5000E

狀  態(tài)：正常點(diǎn)擊量：2139

400-006-7520
聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)說明是在上海非利加實(shí)業(yè)有限公司上看到的，謝謝！

上海非利加實(shí)業(yè)有限公司

聯(lián) 系 人： 上海非利加實(shí)業(yè)有限公司

電   話： 400-006-7520

傳   真： 400-006-7520

配送方式： 上海自提或三方快遞

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OAI 5000E 光刻機(jī)
詳細(xì)介紹

型號(hào)5000E大面積光刻機(jī)用于基板和顯示器

OAI 5000E型大面積掩光刻機(jī)是***種的高性能，全自動(dòng)掩模對(duì)準(zhǔn)器和曝光工具，可為大型平板應(yīng)用提供超精密，，亞微米對(duì)準(zhǔn)和分辨率。 其靈活的設(shè)計(jì)允許在各種基材（圓形或方形）上印刷高達(dá)300mm或20“×20”。 曝光系統(tǒng)兼容近，中，或深紫外范圍的光刻膠，并具有計(jì)算機(jī)控制的LED顯微鏡照明，在不太理想的觀察環(huán)境中觀察。


Model 5000E Large Area Mask Aligner for Substrates ａnd Displays
The OAI Model 5000E Large Area Mask Aligner is an advanced, high-performance, fully-automated mask Aligner ａnd exposure tool that delivers ultra precise, Topside, sub-micron alignment ａnd resolution for large, flat panel applications. Its flexible design allows printing on various substrates - round or square - up to 300mm or 20”x20”. The exposure system is compatible with photo resist in Near, Mid, or Deep UV range, ａnd features computer-controlled LED microscope lighting for viewing in less-than-ideal viewing environments.

 

產(chǎn)品參數(shù)


產(chǎn)品介紹




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